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光學冷熱臺CH600S溫度范圍-190℃~600℃，溫度穩定性±0.1℃，能實現定點、斜率、程序段多模式精準控溫。

光學熱臺H600S/H800S溫度范圍RT~800℃，溫度穩定性±0.1℃；載樣臺反射/透射可選；旋擰結構上蓋，取放樣品便捷。

光學冷熱臺CH600S-T具備4K至1700℃的超寬范圍精確控溫能力。依據目標溫度及應用特點，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、熱電制冷、電阻加熱、紅外加熱、激光加熱等在內的多種前沿溫控解決方案，為復雜變溫實驗提供強大支持。

光學熱臺H200-Mini具備4K至1700℃的超寬范圍精確控溫能力。依據目標溫度及應用特點，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、熱電制冷、電阻加熱、紅外加熱、激光加熱等在內的多種前沿溫控解決方案，為復雜變溫實驗提供強大支持。

光學冷熱臺CH600S-XY溫度范圍-190℃~600℃,溫度穩定性±0.1℃，能實現定點、斜率、程序段多模式精準控溫。